Содержание
2.Виды излучения
3.Радиационные эффекты
4.Термический отжиг
Выдержка из текста
Радиационный технологический процесс (РТП), состоящий из последовательных операций облучения высокоэнергетичными электронами и термического отжига, в последние годы находит все более широкое и в основном безальтернативное практическое применение в технологии различных изделий полупроводниковой электроники с целью обеспечения импульсно-частотных характеристик и регулирования статических параметров.
Список использованной литературы
Э.Н. Вологдин, А.П. Лысенко Радиационные эффекты в некоторых классах полупроводниковых приборов Учебное пособие , Москва 2001 г
3.Статья М.Д. Варенцов, Г.П. Гайдар, А.П. Долголенко, П.Г. Литовченко «Влияние облучения и отжига на термическую стабильность радиационных дефектов в кремнии» УДК 539.125.5.04:621.315.59
4.Э.Н. Вологдин, А.П. Лысенко «Интегральные радиационные изменения параметров полупроводниковых материалов»Учебное пособие, Москва 1998г
5.Статья В.А. Саакян «Действие различных видов облучения на параметры кремниевых полупроводниковых приборов», УДК 621.382
6. Статья Г.П. Гайдар «Отжиг радиационных дефектов в кремнии» УДК 621.315.592
7.Статья В.Н. Брудный «Радиационные эффекты в полупроводниках», УДК 621.315.592:539.293
8.А.И. Курносов,В.В.Юдин «Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных схем», Москва,изд.Высшая школа,1986
9. Статья Ф.П. Коршунов1), Ю.В. Богатырев1), С.Б. Ластовский1), В.И. Кульгачев1), Л.П. Ануфриев2),И.И. Рубцевич2), В.В. Глухманчук2), Н.Ф. Голубев2) «Радиационно-термическая обработка мощных кремниевых диодов»